モノクロメーター: SI(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.3→87.23 Å / Num. obs: 40589 / % possible obs: 99.7 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 4.8 % / Biso Wilson estimate: 43.8 Å2
反射 シェル
解像度: 2.3→2.4 Å / 冗長度: 4.7 % / % possible all: 99.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
DNA
データ収集
HKL2Map
モデル構築
REFMAC
5.5.0110
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
HKL2Map
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.3→87.23 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.93 / SU B: 12.078 / SU ML: 0.151 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.327 / ESU R Free: 0.231 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23955
1018
5 %
RANDOM
Rwork
0.19228
-
-
-
obs
0.19463
19319
100 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK