モノクロメーター: Double silicon(111) crystal / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9793 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.5→50 Å / Num. all: 8254 / Num. obs: 8243 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 12.7 % / Rmerge(I) obs: 0.127 / Net I/σ(I): 46.2
反射 シェル
解像度: 2.5→2.54 Å / 冗長度: 12.8 % / Rmerge(I) obs: 0.57 / Mean I/σ(I) obs: 7.7 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
CBASS
データ収集
AutoSol
位相決定
REFMAC
5.8.0049
精密化
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.51→46.77 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.942 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.934 / SU B: 11.866 / SU ML: 0.256 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.556 / ESU R Free: 0.293 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25807
378
4.6 %
RANDOM
Rwork
0.22469
-
-
-
obs
0.22636
7790
99.54 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK