プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 3.9 % / Av σ(I) over netI: 10.9 / 数: 72719 / Rsym value: 0.049 / D res high: 1.575 Å / D res low: 28.857 Å / Num. obs: 18694 / % possible obs: 98.7
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Rsym value
Redundancy
4.98
28.86
99.5
1
0.026
0.026
3.7
3.52
4.98
100
1
0.022
0.022
4
2.88
3.52
100
1
0.032
0.032
4.1
2.49
2.88
100
1
0.041
0.041
4.1
2.23
2.49
100
1
0.059
0.059
4.1
2.03
2.23
99.9
1
0.074
0.074
4.1
1.88
2.03
99.6
1
0.116
0.116
4.1
1.76
1.88
99.2
1
0.197
0.197
4.1
1.66
1.76
98.7
1
0.32
0.32
4
1.58
1.66
93.5
1
0.439
0.439
2.8
反射
解像度: 1.58→28.86 Å / Num. all: 18940 / Num. obs: 18694 / % possible obs: 98.7 % / 冗長度: 3.9 % / Biso Wilson estimate: 19.7 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.049 / Rsym value: 0.049 / Net I/σ(I): 15.7
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. unique all
Rsym value
% possible all
1.58-1.66
2.8
0.439
2
2212
0.439
98.7
1.66-1.76
4
0.32
3.8
2472
0.32
99.6
1.76-1.88
4.1
0.197
6.3
2321
0.197
99.7
1.88-2.03
4.1
0.116
10.5
2200
0.116
99.9
2.03-2.23
4.1
0.074
16.1
2030
0.074
99.9
2.23-2.49
4.1
0.059
19.5
1862
0.059
100
2.49-2.88
4.1
0.041
24.9
1672
0.041
99.9
2.88-3.52
4.1
0.032
33.9
1444
0.032
99.9
3.52-4.98
4
0.022
45.1
1136
0.022
99.8
4.98-28.86
3.7
0.026
36.4
681
0.026
99.5
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
最高解像度
最低解像度
Rotation
2.5 Å
28.86 Å
Translation
2.5 Å
28.86 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
SCALA
3.3.20
データスケーリング
PHASER
2.3.0
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.11
データ抽出
CrystalClear
データ収集
MOSFLM
データ削減
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.58→28.86 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.968 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.955 / WRfactor Rfree: 0.1863 / WRfactor Rwork: 0.1507 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.5 / FOM work R set: 0.8991 / SU B: 2.667 / SU ML: 0.051 / SU R Cruickshank DPI: 0.0869 / SU Rfree: 0.0882 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.087 / ESU R Free: 0.088 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2025
958
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1678
17692
-
-
obs
0.1696
18650
98.49 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK