プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.2→50 Å / Num. obs: 32238 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 8 % / Rmerge(I) obs: 0.108 / Net I/σ(I): 34.5
反射 シェル
解像度: 2.2→2.28 Å / 冗長度: 8.1 % / Rmerge(I) obs: 0.424 / Mean I/σ(I) obs: 6.8 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
MOLREP
位相決定
REFMAC
5.7.0029
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.2→39.67 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.943 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.904 / SU B: 5.81 / SU ML: 0.15 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.337 / ESU R Free: 0.23 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2443
1628
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.19532
-
-
-
obs
0.19774
30420
99.49 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK