モノクロメーター: Graphite / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 8 % / Av σ(I) over netI: 24.97 / 数: 100448 / Rmerge(I) obs: 0.085 / Χ2: 3.3 / D res high: 2.6 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 12538 / % possible obs: 97.1
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
7.05
50
98.2
1
0.06
7.544
11.6
5.6
7.05
99.4
1
0.079
4.659
9.9
4.89
5.6
98.8
1
0.082
4.526
10.6
4.45
4.89
99.8
1
0.078
4.711
11.2
4.13
4.45
99.2
1
0.078
4.556
11.1
3.88
4.13
99.5
1
0.082
3.78
10.7
3.69
3.88
99.4
1
0.078
3.026
9.9
3.53
3.69
99.7
1
0.085
2.743
9.1
3.39
3.53
99.7
1
0.097
2.378
8.3
3.28
3.39
99.2
1
0.1
2.166
7.7
3.17
3.28
98.7
1
0.119
1.942
6.9
3.08
3.17
98
1
0.121
1.667
6.7
3
3.08
96.5
1
0.133
1.59
6.2
2.93
3
95.7
1
0.147
1.356
6.1
2.86
2.93
95.3
1
0.149
1.259
5.8
2.8
2.86
95.8
1
0.171
1.161
5.7
2.74
2.8
93.6
1
0.171
1.039
5.3
2.69
2.74
91.3
1
0.191
1.09
5.3
2.64
2.69
92.3
1
0.189
0.991
4.9
2.6
2.64
90.3
1
0.212
0.968
4.9
反射
解像度: 1.7→50 Å / Num. obs: 42035 / % possible obs: 94.7 % / 冗長度: 8.1 % / Rmerge(I) obs: 0.065 / Χ2: 1.148 / Net I/σ(I): 11.4
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
Diffraction-ID
% possible all
1.7-1.76
2.9
0.292
2901
0.452
1
67
1.76-1.83
4.2
0.293
3839
0.496
1
87.5
1.83-1.91
5.3
0.267
4238
0.543
1
97.3
1.91-2.02
6.4
0.222
4336
0.623
1
98.9
2.02-2.14
7.4
0.182
4386
0.752
1
99.2
2.14-2.31
8.3
0.13
4397
0.833
1
99.6
2.31-2.54
9.2
0.103
4385
0.913
1
99.7
2.54-2.91
10.3
0.081
4443
1.117
1
99.6
2.91-3.66
11.7
0.07
4487
2.137
1
99.6
3.66-50
12.6
0.038
4623
1.497
1
97.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
REFMAC
5.7.0029
精密化
PDB_EXTRACT
3.11
データ抽出
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.7→45.45 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.959 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.934 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 1 / SU B: 3.133 / SU ML: 0.098 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.125 / ESU R Free: 0.124 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES: REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2415
2121
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1979
-
-
-
obs
0.2
39869
94.74 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK