THE COMPLETE CRYSTALLIZED SEQUENCE OF CHAIN A AND D IS: ...THE COMPLETE CRYSTALLIZED SEQUENCE OF CHAIN A AND D IS: MNSENTIVYVRVAGRARNGFVDPLKFYWDLERDRSLWSSVSKLDNTKKTIDWKRLSREFKAPEHFIRKRSYALFAKHLKLLERQIE.THE C-TERMINAL RESIUES 51-79 ARE IN THE REGION WITH POOR ELECTRON DENSITY AND REPRESENTED AS UNKNOWN RESIDUES (UNK) IN THE COORDINATES SINCE THE SEQUENC REGISTER IS NOT KNOWN.
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実験情報
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実験
実験
手法: X線回折 / 使用した結晶の数: 1
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試料調製
結晶
マシュー密度: 5.41 Å3/Da / 溶媒含有率: 77.24 %
結晶化
温度: 294 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 8 詳細: 50 mM Tris pH8, 4-10% peg 2KMME, 10-20% ethylene glycol, 100 mM NaCL, pH 8.0, VAPOR DIFFUSION, HANGING DROP, temperature 294K
解像度: 3.055→3.2 Å / Rmerge(I) obs: 0.254 / Mean I/σ(I) obs: 4.1 / % possible all: 29
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解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
SOLVE
位相決定
REFMAC
5.7.0029
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 3.06→46.56 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.851 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.812 / SU B: 20.473 / SU ML: 0.377 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 1.224 / ESU R Free: 0.529 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.33622
2329
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.30312
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-
-
obs
0.3048
43481
75.44 %
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溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK