プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.3→39.34 Å / Num. all: 27832 / Num. obs: 27832 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 13.5 % / Biso Wilson estimate: 30.187 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.062 / Rsym value: 0.086 / Net I/σ(I): 30.93
反射 シェル
解像度: 2.3→2.38 Å / 冗長度: 8.7 % / Rmerge(I) obs: 0.483 / Mean I/σ(I) obs: 4.2 / Num. unique all: 2860 / Rsym value: 0.519 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
PHASER
位相決定
REFMAC
5.6.0111
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.3→39.34 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.95 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.922 / SU B: 3.66 / SU ML: 0.091 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.165 / ESU R Free: 0.159 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2181
1491
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1766
-
-
-
all
0.17871
27832
-
-
obs
0.17871
27832
99.92 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK