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基本情報
登録情報
データベース: PDB / ID: 4gnv
タイトル
Crystal structure of beta-hexosaminidase 1 from Burkholderia cenocepacia J2315 with bound N-Acetyl-D-Glucosamine
要素
Beta-hexosaminidase 1
キーワード
HYDROLASE / Structural Genomics / NIAID / National Institute of Allergy and Infectious Diseases / Seattle Structural Genomics Center for Infectious Disease / SSGCID
温度: 289 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 8.5 詳細: EBS Internal tracking number 234629b12: BuceA.18451.a.B1.PW36254 at 20 mg/mL in 25 mM HEPES (pH 7.0), 500 mM NaCl, 2 mM DTT, 0.025% Sodium Azide, 5% glycerol. 0.4 uL x 0.4 uL drop with ...詳細: EBS Internal tracking number 234629b12: BuceA.18451.a.B1.PW36254 at 20 mg/mL in 25 mM HEPES (pH 7.0), 500 mM NaCl, 2 mM DTT, 0.025% Sodium Azide, 5% glycerol. 0.4 uL x 0.4 uL drop with Morpheus Screen B12: 90 mM Halogens (NaF, NaBr, NaI), 0.1 M Tris/Bicine pH 8.5, 37.5% MPD-PEG1000-PEG3500, SOAK 1 week with 10 mM N-acetyl-D-glucosamine, VAPOR DIFFUSION, SITTING DROP, temperature 289K
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データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: シンクロトロン / サイト: ALS / ビームライン: 5.0.3 / 波長: 0.976484 Å
検出器
タイプ: ADSC QUANTUM 315 / 検出器: CCD / 日付: 2012年6月29日
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.976484 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.5→67.12 Å / Num. all: 551832 / Num. obs: 85727 / % possible obs: 97.8 % / 冗長度: 6.11 % / Rmerge(I) obs: 0.041 / Net I/σ(I): 28.22
反射 シェル
解像度: 1.5→1.539 Å / Rmerge(I) obs: 0.229 / Mean I/σ(I) obs: 4.57 / % possible all: 84.57
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位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
最高解像度
最低解像度
Rotation
2.5 Å
38.99 Å
Translation
2.5 Å
38.99 Å
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解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
PHASER
2.3.0
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.11
データ抽出
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.5→67.12 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.969 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.958 / WRfactor Rfree: 0.1702 / WRfactor Rwork: 0.1432 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.5 / FOM work R set: 0.906 / SU B: 2.092 / SU ML: 0.04 / SU R Cruickshank DPI: 0.0695 / SU Rfree: 0.0704 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.07 / ESU R Free: 0.07 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : RESIDUAL ONLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1755
4519
5 %
RANDOM
Rwork
0.1479
-
-
-
obs
0.1493
90246
97.82 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK