プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9789 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→50 Å / Num. obs: 41290 / % possible obs: 97.2 % / 冗長度: 4.2 %
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Diffraction-ID
% possible all
1.8-1.86
4.2
0.421
1
96.2
1.86-1.94
4.2
0.31
1
96.4
1.94-2.03
4.2
0.155
1
96.6
2.03-2.13
4.2
0.155
1
96
2.13-2.27
4.2
0.12
1
97.1
2.27-2.44
4.2
0.097
1
97.6
2.44-2.69
4.2
0.077
1
97.8
2.69-3.08
4.2
0.057
1
98.3
3.08-3.88
4.1
0.043
1
98.4
3.88-50
4
0.027
1
96.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
SOLVE
位相決定
REFMAC
5.6.0117
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.8→30.46 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.966 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.948 / SU B: 3.34 / SU ML: 0.101 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.14 / ESU R Free: 0.133 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2244
2086
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.18107
-
-
-
obs
0.1833
39150
96.72 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK