プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.92 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.4→44.2 Å / Num. obs: 146171 / % possible obs: 99.5 % / Observed criterion σ(I): -3.7 / 冗長度: 8.2 % / Biso Wilson estimate: 13 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 16.2
反射 シェル
解像度: 1.4→1.42 Å / 冗長度: 8.1 % / Rmerge(I) obs: 0.77 / Mean I/σ(I) obs: 2.6 / % possible all: 97.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: PREVIOUSLY SOLVED NATIVE APO STRUCTURE 解像度: 1.4→66.01 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.983 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.977 / SU B: 1.63 / SU ML: 0.029 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.046 / ESU R Free: 0.044 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.14188
7132
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.11286
-
-
-
obs
0.11427
138951
99.47 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK