プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.92 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.3→43.3 Å / Num. obs: 173270 / % possible obs: 99.8 % / Observed criterion σ(I): -3.7 / 冗長度: 8 % / Biso Wilson estimate: 12.6 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 16.6
反射 シェル
解像度: 1.3→1.32 Å / 冗長度: 8 % / Rmerge(I) obs: 0.92 / Mean I/σ(I) obs: 2.2 / % possible all: 99.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: PREVIOUSLY SOLVED NATIVE APO STRUCTURE 解像度: 1.3→65.06 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.96 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.948 / SU B: 1.97 / SU ML: 0.038 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.056 / ESU R Free: 0.054 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20949
8466
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.1753
-
-
-
obs
0.17697
164705
99.69 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK