モノクロメーター: SI CRYSTAL / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.011 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.72→67.09 Å / Num. obs: 119433 / % possible obs: 99.3 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 3.7 % / Biso Wilson estimate: 16.1 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 12.6
反射 シェル
解像度: 1.72→1.72 Å / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.53 / Mean I/σ(I) obs: 2.2 / % possible all: 99.1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0069
精密化
AutoPROC
データ削減
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
AMoRE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.72→94.03 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.96 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.936 / SU B: 2.836 / SU ML: 0.087 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.109 / ESU R Free: 0.102 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES - REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20306
4075
3.4 %
RANDOM
Rwork
0.17602
-
-
-
obs
0.17717
115357
99.29 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK