プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.8726 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.7→30 Å / Num. obs: 15494 / % possible obs: 89.3 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 4.2 % / Biso Wilson estimate: 38.3 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.09 / Net I/σ(I): 14.7
反射 シェル
解像度: 2.7→2.85 Å / 冗長度: 2.9 % / Rmerge(I) obs: 0.32 / Mean I/σ(I) obs: 4.5 / % possible all: 84.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: OTHER 開始モデル: NONE 解像度: 2.7→29.2 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.912 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.853 / SU B: 12.291 / SU ML: 0.254 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.385 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY. RESIDUES 60 TO 64 HAVE ALTERNATIVE CONFORMATIONS, RESIDUES 190 TO 197 ARE DISORDERED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26997
216
1.4 %
RANDOM
Rwork
0.20596
-
-
-
obs
0.20686
15081
88.07 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK