プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9537 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→37.1 Å / Num. obs: 42230 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 7 % / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 7.2
反射 シェル
解像度: 1.9→2 Å / 冗長度: 6.1 % / Rmerge(I) obs: 0.36 / Mean I/σ(I) obs: 2 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
HKL2Map
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.9→70.1 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.957 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.948 / SU B: 2.881 / SU ML: 0.085 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.143 / ESU R Free: 0.129 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20947
2184
5 %
RANDOM
Rwork
0.17864
-
-
-
obs
0.18024
41259
99.96 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK