プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.77 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→19.81 Å / Num. obs: 24427 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 2 % / Rrim(I) all: 0.07 / Net I/σ(I): 28.83
反射 シェル
最高解像度: 1.8 Å / Mean I/σ(I) obs: 12.94 / Rrim(I) all: 0.185 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
SIGMAA
モデル構築
MLPHARE
モデル構築
XSCALE
データスケーリング
SHELXCD
位相決定
PHASER
位相決定
SIGMAA
位相決定
RESOLVE
位相決定
BP3
位相決定
ABS
位相決定
MLPHARE
位相決定
REFMAC
5.2.0019
精密化
SHELXE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.8→19.81 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.956 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.928 / SU B: 2.601 / SU ML: 0.082 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.129 / ESU R Free: 0.126 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22078
1051
4.1 %
RANDOM
Rwork
0.17774
-
-
-
obs
0.17947
24427
99.99 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK