プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.282 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.85→54 Å / Num. obs: 34844 / % possible obs: 99.7 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 6.5 % / Biso Wilson estimate: 33.5 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 0
反射 シェル
解像度: 1.85→1.9 Å / 冗長度: 5.7 % / Rmerge(I) obs: 0.72 / Mean I/σ(I) obs: 0 / % possible all: 96.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0102
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHELXCD
位相決定
SHELXE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.85→25 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.96 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.931 / SU B: 6.656 / SU ML: 0.091 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.144 / ESU R Free: 0.141 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22752
939
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.17606
-
-
-
obs
0.1786
17371
98.49 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK