プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.96 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.3→47.31 Å / Num. obs: 25159 / % possible obs: 86.5 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.13 / Net I/σ(I): 6.9
反射 シェル
解像度: 2.3→2.36 Å / 冗長度: 4.2 % / Rmerge(I) obs: 0.88 / Mean I/σ(I) obs: 1.7 / % possible all: 72.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0102
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.3→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.941 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.892 / SU B: 10.339 / SU ML: 0.248 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 1.108 / ESU R Free: 0.337 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27699
1199
5 %
RANDOM
Rwork
0.21275
-
-
-
obs
0.21602
22611
81.67 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK