プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97892 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.05→55.22 Å / Num. obs: 62502 / % possible obs: 99.9 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 3.7 % / Biso Wilson estimate: 31.5 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 10.7
反射 シェル
解像度: 2.05→2.16 Å / 冗長度: 3.3 % / Rmerge(I) obs: 0.6 / Mean I/σ(I) obs: 2.1 / % possible all: 99.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELXD
SHELXE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.05→55 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.956 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.936 / SU B: 9.086 / SU ML: 0.123 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.188 / ESU R Free: 0.168 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES WITH TLS ADDED. LOCAL NCS RESTRAINTS USED.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23592
3146
5 %
RANDOM
Rwork
0.19305
-
-
-
obs
0.1952
59370
99.83 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK