プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9796 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.6→71.12 Å / Num. obs: 190851 / % possible obs: 95.1 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 6.7 % / Biso Wilson estimate: 59.026 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 16.5
反射 シェル
解像度: 2.6→2.74 Å / 冗長度: 4.1 % / Rmerge(I) obs: 0.31 / Mean I/σ(I) obs: 3.7 / % possible all: 75.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
iMOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELXCDE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.6→296.59 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.946 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.918 / SU B: 19.836 / SU ML: 0.197 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.487 / ESU R Free: 0.277 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. DISORDERED ATOMS WERE REMOVED.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23124
9606
5 %
RANDOM
Rwork
0.18557
-
-
-
obs
0.18787
181114
94.97 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK