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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 436d | ||||||||||||||||||
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タイトル | THE DICKERSON-DREW B-DNA DODECAMER REVISITED-AT ATOMIC RESOLUTION | ||||||||||||||||||
![]() | 5'-D(*![]() DNA / B-DNA DODECAMER / HIGH RESOLUTION | 機能・相同性 | DNA / DNA (> 10) | ![]() 手法 | ![]() ![]() ![]() Tereshko, V. / Minasov, G. / Egli, M. | ![]() ジャーナル: J.Am.Chem.Soc. / 年: 1999 | タイトル: The Dickerson-Drew B-DNA Dodecamer Revisited-At Atomic Resolution 著者: Tereshko, V. / Minasov, G. / Egli, M. 履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 45.4 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 32.4 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
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-関連構造データ
類似構造データ |
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 |
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単位格子 |
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要素
#1: DNA鎖 | 分子量: 3681.383 Da / 分子数: 2 / 由来タイプ: 合成 #2: 化合物 | ChemComp-MG / #3: 水 | ChemComp-HOH / | |
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-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.08 Å3/Da / 溶媒含有率: 40.93 % | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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結晶化 | 温度: 295 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 7 詳細: SODIUM CACODYLATE, MAGNESIUM ACETATE, SPERMINE; PRECIPITANT: MPD, pH 7.0, VAPOR DIFFUSION, SITTING DROP, temperature 295K | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 |
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結晶化 | *PLUS pH: 6.9 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 | *PLUS
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-データ収集
回折 | 平均測定温度: 100 K |
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() |
検出器 | タイプ: MARRESEARCH / 検出器: CCD / 日付: 1998年2月2日 |
放射 | モノクロメーター: MIRRORS / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 0.978 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 1.1→30 Å / Num. all: 26878 / Num. obs: 26878 / % possible obs: 99.5 % / Observed criterion σ(F): 0 / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 5.2 % / Rmerge(I) obs: 0.066 |
反射 シェル | 解像度: 1.1→1.2 Å / Rmerge(I) obs: 0.154 / % possible all: 99.7 |
反射 | *PLUS 最高解像度: 1.1 Å |
反射 シェル | *PLUS 最高解像度: 1.1 Å / 最低解像度: 1.2 Å / % possible obs: 99.7 % / Num. unique obs: 6060 / Mean I/σ(I) obs: 8.5 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 解像度: 1.1→20 Å / σ(F): 0 / σ(I): 0
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 1.1→20 Å
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拘束条件 |
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ソフトウェア | *PLUS 名称: SHELXL-97 / 分類: refinement | |||||||||||||||||||||||||||||||||
精密化 | *PLUS 最高解像度: 1.1 Å / 最低解像度: 20 Å / σ(F): 0 / % reflection Rfree: 10 % / Rfactor Rfree: 0.21 / Rfactor Rwork: 0.162 | |||||||||||||||||||||||||||||||||
溶媒の処理 | *PLUS | |||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | *PLUS | |||||||||||||||||||||||||||||||||
拘束条件 | *PLUS タイプ: s_angle_d / Dev ideal: 0.02 | |||||||||||||||||||||||||||||||||
LS精密化 シェル | *PLUS 最高解像度: 1.1 Å / 最低解像度: 1.2 Å / Rfactor obs: 0.22 |