モノクロメーター: SILICON (1 1 1) CHANNEL- CUT / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9834 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.15→19 Å / Num. obs: 28072 / % possible obs: 98 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 3.3 % / Biso Wilson estimate: 11.8 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.09 / Net I/σ(I): 9.8
反射 シェル
解像度: 1.15→1.21 Å / 冗長度: 2.9 % / Rmerge(I) obs: 0.26 / Mean I/σ(I) obs: 3.1 / % possible all: 97.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELXDE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単一同系置換・異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.15→18 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.976 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.969 / SU B: 0.875 / SU ML: 0.019 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.033 / ESU R Free: 0.032 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.15129
1422
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.12892
-
-
-
obs
0.13006
26611
97.54 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK