プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9778 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.67→30 Å / Num. obs: 31492 / % possible obs: 98.6 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 8.3 % / Biso Wilson estimate: 26.8 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.09 / Net I/σ(I): 19.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: OTHER 開始モデル: NONE 解像度: 1.67→30 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.971 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.958 / SU B: 4.232 / SU ML: 0.063 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.091 / ESU R Free: 0.094 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21536
1038
3.2 %
RANDOM
Rwork
0.17942
-
-
-
obs
0.18051
31492
98.56 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK