プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.90817 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.1→29.7 Å / Num. obs: 36726 / % possible obs: 99 % / Observed criterion σ(I): 3.1 / 冗長度: 4.1 % / Rmerge(I) obs: 0.14 / Net I/σ(I): 8.1
反射 シェル
解像度: 2.1→2.21 Å / 冗長度: 3.9 % / Rmerge(I) obs: 0.38 / Mean I/σ(I) obs: 3.1 / % possible all: 95
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.1→136.72 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.937 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.906 / SU B: 5.063 / SU ML: 0.132 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.282 / ESU R Free: 0.199 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22235
1829
5 %
RANDOM
Rwork
0.17446
-
-
-
obs
0.17685
34896
98.77 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK