プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.95373 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.1→29.69 Å / Num. obs: 37117 / % possible obs: 99.9 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 5.9 % / Rmerge(I) obs: 0.15 / Net I/σ(I): 9.8
反射 シェル
解像度: 2.1→2.21 Å / 冗長度: 5.4 % / Rmerge(I) obs: 0.49 / Mean I/σ(I) obs: 3.2 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.1→30 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.943 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.911 / SU B: 5.005 / SU ML: 0.132 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.274 / ESU R Free: 0.197 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22209
1844
5 %
RANDOM
Rwork
0.17236
-
-
-
obs
0.17483
35114
99.68 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK