プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97932 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.65→46.54 Å / Num. obs: 50746 / % possible obs: 96 % / Observed criterion σ(I): 3 / 冗長度: 4 % / Biso Wilson estimate: 28.741 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.04 / Net I/σ(I): 30.9
反射 シェル
解像度: 1.65→1.74 Å / 冗長度: 4 % / Rmerge(I) obs: 0.48 / Mean I/σ(I) obs: 3 / % possible all: 91.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0032
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
autoSHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.65→46.54 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.969 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.95 / SU B: 5.755 / SU ML: 0.083 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.153 / ESU R Free: 0.108 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21981
5117
10.1 %
RANDOM
Rwork
0.16373
-
-
-
obs
0.16935
45628
96.47 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK