モノクロメーター: a high resolution Si(311) cut and a lower resolution Si(111) プロトコル: MAD / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9798 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.15→50 Å / Num. all: 22276 / Num. obs: 21875 / % possible obs: 98.2 % / 冗長度: 4.5 % / Biso Wilson estimate: 44.7 Å2 / Rsym value: 0.062 / Net I/σ(I): 19.9
反射 シェル
解像度: 2.15→2.23 Å / 冗長度: 4.5 % / Mean I/σ(I) obs: 3 / Num. unique all: 1866 / Rsym value: 0.425 / % possible all: 83.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
PHENIX
モデル構築
REFMAC
5.5.0109
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.2→28.86 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.925 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.915 / SU B: 6.184 / SU ML: 0.163 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.214 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27615
503
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.24308
-
-
-
obs
0.24459
10073
99.73 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK