A: Protein kinase C and casein kinase II substrate protein 3 B: Protein kinase C and casein kinase II substrate protein 3 C: Protein kinase C and casein kinase II substrate protein 3 D: Protein kinase C and casein kinase II substrate protein 3 E: Protein kinase C and casein kinase II substrate protein 3 F: Protein kinase C and casein kinase II substrate protein 3 G: Protein kinase C and casein kinase II substrate protein 3 H: Protein kinase C and casein kinase II substrate protein 3
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 3.1→48.9 Å / Num. obs: 99512 / % possible obs: 98.68 %
反射 シェル
解像度: 3.1→3.18 Å / % possible all: 98
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
MOLREP
位相決定
REFMAC
5.5.0110
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 3.1→48.9 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.913 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.881 / SU B: 17.957 / SU ML: 0.324 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.437 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.33683
5196
5 %
RANDOM
Rwork
0.28063
-
-
-
obs
0.28345
98202
98.68 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK