プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.91841 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.57→25 Å / Num. all: 54458 / Num. obs: 54458 / % possible obs: 93.8 % / 冗長度: 2.7 % / Biso Wilson estimate: 16.42 Å2 / Rsym value: 0.056 / Net I/σ(I): 16.2
反射 シェル
解像度: 1.57→1.6 Å / 冗長度: 2.2 % / Mean I/σ(I) obs: 2.74 / Rsym value: 0.27 / % possible all: 83.9
-
解析
ソフトウェア
名称
分類
MAR345dtb
データ収集
SHELX
モデル構築
SHELXL-97
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SHELX
位相決定
精密化
構造決定の手法: AB INITIO / 解像度: 1.57→25 Å / Num. parameters: 12381 / Num. restraintsaints: 11634 / 交差検証法: FREE R / σ(F): 0 / 立体化学のターゲット値: ENGH AND HUBER 詳細: ANISOTROPIC SCALING APPLIED BY THE METHOD OF PARKIN, MOEZZI & HOPE, J.APPL.CRYST.28(1995)53-56
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1823
-
-
RANDOM
all
0.1645
51761
-
-
obs
-
52055
89.9 %
-
Refine analyze
Num. disordered residues: 6 / Occupancy sum hydrogen: 2662 / Occupancy sum non hydrogen: 3058.5