温度: 290 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 4.6 詳細: Internal tracking number 218398G5. Focus screen based on CryoFull G6. 1.5 uL 40% PEG600, 0.1 M citrate pH 4.6 + 2 uL EnhiA.01648.a.D18 PD00157 (VCID3088) at 5.6 mg/ml, VAPOR DIFFUSION, ...詳細: Internal tracking number 218398G5. Focus screen based on CryoFull G6. 1.5 uL 40% PEG600, 0.1 M citrate pH 4.6 + 2 uL EnhiA.01648.a.D18 PD00157 (VCID3088) at 5.6 mg/ml, VAPOR DIFFUSION, SITTING DROP, temperature 290K
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54178 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.05→26.86 Å / Num. obs: 13084 / % possible obs: 98.4 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 13.48 % / Biso Wilson estimate: 28.721 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.078 / Net I/σ(I): 25.59
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
最高解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. measured obs
Num. unique obs
% possible all
2.05-2.1
10
0.369
6.5
8242
818
86.4
2.1-2.16
0.322
8.3
11251
939
97.8
2.16-2.22
0.263
11.3
12421
875
98.6
2.22-2.29
0.229
12.7
12996
920
99
2.29-2.37
0.188
15
11695
824
99.4
2.37-2.45
0.193
14.6
11983
846
99.4
2.45-2.54
0.162
16.7
11487
806
99.4
2.54-2.65
0.132
20.6
10794
761
99.5
2.65-2.76
0.114
22.7
10916
765
99.7
2.76-2.9
0.098
25.6
9966
708
99.7
2.9-3.06
0.085
27.5
9693
680
99.9
3.06-3.24
0.073
31.9
9151
651
100
3.24-3.47
0.056
40.1
8721
623
99.8
3.47-3.74
0.047
47.5
8126
579
100
3.74-4.1
0.042
51.6
7334
534
100
4.1-4.58
0.044
54.8
6546
489
100
4.58-5.29
0.044
53.5
5408
416
100
5.29-6.48
0.048
47.1
4498
372
100
6.48-9.17
0.048
49.7
3372
301
100
9.17
0.037
54.6
1820
177
94.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
XSCALE
データスケーリング
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.004
データ抽出
XDS
データ削減
CRANK
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.05→26.86 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.946 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.917 / SU B: 8.081 / SU ML: 0.115 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.189 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.237
637
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.176
-
-
-
obs
0.179
13006
98.17 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK