プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.3→38.55 Å / Num. obs: 17654 / % possible obs: 96.3 % / 冗長度: 3.9 % / Rmerge(I) obs: 0.052 / Net I/σ(I): 12.2
反射 シェル
解像度: 2.3→2.38 Å / 冗長度: 3.9 % / Rmerge(I) obs: 0.402 / Mean I/σ(I) obs: 2.9 / % possible all: 93.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0102
精密化
CNS
精密化
StructureStudio
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
CNS
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.3→25 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.92 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.882 / SU B: 24.513 / SU ML: 0.265 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.476 / ESU R Free: 0.307 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.3036
904
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.24683
-
-
-
obs
0.24983
16668
95.88 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK