プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97952 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→50 Å / Num. obs: 22595 / % possible obs: 99.7 % / Observed criterion σ(I): 55.3 / 冗長度: 6 % / Rmerge(I) obs: 0.061 / Net I/σ(I): 42.4
反射 シェル
解像度: 1.8→1.86 Å / 冗長度: 4.8 % / Rmerge(I) obs: 0.553 / Mean I/σ(I) obs: 2.45 / Num. unique all: 2197 / % possible all: 97.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
SOLVE
位相決定
REFMAC
5.5.0072
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
解像度: 1.8→20 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.956 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.94 / SU B: 3.834 / SU ML: 0.12 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.148 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25573
1153
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.21632
-
-
-
obs
0.21836
21414
99.62 %
-
all
-
22567
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK