解像度: 2.7→2.75 Å / 冗長度: 5.4 % / Rmerge(I) obs: 0.731 / Mean I/σ(I) obs: 2.1 / Num. unique all: 2777 / Rsym value: 0.731 / % possible all: 97.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-3000
データ収集
HKL-3000
SHELXD
位相決定
SHELXE
モデル構築
直接法
モデル構築
MLPHARE
位相決定
RESOLVE
モデル構築
CCP4
モデル構築
REFMAC
5.6.0070
精密化
Coot
モデル構築
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
直接法
位相決定
RESOLVE
位相決定
CCP4
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.7→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.94 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.907 / SU B: 30.517 / SU ML: 0.307 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / σ(I): 0 / ESU R Free: 0.391 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27863
2830
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.22461
-
-
-
all
0.22742
53114
-
-
obs
0.22742
53114
97.5 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK