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基本情報
登録情報
データベース: PDB / ID: 3ory
タイトル
Crystal structure of Flap endonuclease 1 from hyperthermophilic archaeon Desulfurococcus amylolyticus
要素
flap endonuclease 1
キーワード
HYDROLASE / endonuclease
機能・相同性
機能・相同性情報
5'-flap endonuclease activity / DNA replication, removal of RNA primer / 5'-3' exonuclease activity / 加水分解酵素; エステル加水分解酵素 / DNA repair / magnesium ion binding / DNA binding 類似検索 - 分子機能
モノクロメーター: Si(111) double crystal monochromator プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→50 Å / Num. obs: 35852 / % possible obs: 99.8 % / Observed criterion σ(I): -3
反射 シェル
解像度: 2→2.06 Å / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
MOLREP
位相決定
REFMAC
5.5.0102
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2→19.84 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.944 / SU B: 7.098 / SU ML: 0.091 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.131 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22464
1793
5 %
RANDOM
Rwork
0.21034
-
-
-
obs
0.21106
34057
99.97 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK
原子変位パラメータ
Biso mean: 38.029 Å2
Baniso -1
Baniso -2
Baniso -3
1-
0.03 Å2
0.02 Å2
0 Å2
2-
-
0.03 Å2
0 Å2
3-
-
-
-0.05 Å2
精密化ステップ
サイクル: LAST / 解像度: 2→19.84 Å
タンパク質
核酸
リガンド
溶媒
全体
原子数
2701
0
15
101
2817
拘束条件
Refine-ID
タイプ
Dev ideal
Dev ideal target
数
X-RAY DIFFRACTION
r_bond_refined_d
0.01
0.022
2762
X-RAY DIFFRACTION
r_angle_refined_deg
1.119
2
3735
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_1_deg
4.867
5
341
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_2_deg
33.046
24.417
120
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_3_deg
13.614
15
513
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_4_deg
17.091
15
19
X-RAY DIFFRACTION
r_chiral_restr
0.076
0.2
419
X-RAY DIFFRACTION
r_gen_planes_refined
0.004
0.021
2043
X-RAY DIFFRACTION
r_mcbond_it
0.592
1.5
1704
X-RAY DIFFRACTION
r_mcangle_it
1.138
2
2756
X-RAY DIFFRACTION
r_scbond_it
1.757
3
1058
X-RAY DIFFRACTION
r_scangle_it
3.067
4.5
979
LS精密化 シェル
解像度: 2→2.052 Å / Total num. of bins used: 20
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.285
134
-
Rwork
0.264
2445
-
obs
-
-
100 %
精密化 TLS
手法: refined / Origin x: 23.622 Å / Origin y: 40.091 Å / Origin z: 18.71 Å