モノクロメーター: Si(111) double crystal / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97931 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.15→50 Å / Num. obs: 18310 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 7.1 % / Biso Wilson estimate: 33 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.108 / Net I/σ(I): 32.3
反射 シェル
解像度: 2.15→2.19 Å / 冗長度: 6.8 % / Rmerge(I) obs: 0.53 / Mean I/σ(I) obs: 4.95 / Num. unique all: 853 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
REFMAC
5.5.0109
精密化
PDB_EXTRACT
3.1
データ抽出
SBC-Collect
データ収集
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
HKL-3000
位相決定
SHELXD
位相決定
SHELXE
モデル構築
MLPHARE
位相決定
直接法
位相決定
RESOLVE
位相決定
Coot
モデル構築
ARP/wARP
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.16→48.6 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.957 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.939 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.5 / SU B: 11.492 / SU ML: 0.136 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.205 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD WITH PHASES 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2236
888
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1737
-
-
-
all
0.1761
-
-
-
obs
0.1761
18310
99.8 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK