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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 3o7k | ||||||
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タイトル | Crystal structure of 2-oxo-4-hydroxy-4-carboxy-5-ureidoimidazoline decarboxylase from Klebsiella pneumoniae | ||||||
![]() | OHCU decarboxylase | ||||||
![]() | LYASE / decarboxylase | ||||||
機能・相同性 | ![]() 2-oxo-4-hydroxy-4-carboxy-5-ureidoimidazoline decarboxylase / 2-oxo-4-hydroxy-4-carboxy-5-ureidoimidazoline decarboxylase activity / urate catabolic process / purine nucleobase metabolic process 類似検索 - 分子機能 | ||||||
生物種 | ![]() | ||||||
手法 | ![]() ![]() ![]() | ||||||
![]() | French, J.B. / Ealick, S.E. | ||||||
![]() | ![]() タイトル: Structural and Mechanistic Studies on Klebsiella pneumoniae 2-Oxo-4-hydroxy-4-carboxy-5-ureidoimidazoline Decarboxylase. 著者: French, J.B. / Ealick, S.E. | ||||||
履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 40.7 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 27.5 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
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-関連構造データ
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 |
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単位格子 |
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要素
#1: タンパク質 | 分子量: 20833.295 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 組換発現 由来: (組換発現) ![]() 株: ATCC 700721 / 遺伝子: KPN78578_16350, KPN_01665 / 発現宿主: ![]() ![]() |
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#2: 水 | ChemComp-HOH / |
-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.12 Å3/Da / 溶媒含有率: 41.96 % |
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結晶化 | 温度: 291 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 6.5 詳細: 22-26% PEG-8000, 0.25 M sodium acetate in pH 6.5 cacodylate, VAPOR DIFFUSION, HANGING DROP, temperature 291K |
-データ収集
回折 | 平均測定温度: 100 K |
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() |
検出器 | タイプ: ADSC QUANTUM 210 / 検出器: CCD / 日付: 2010年1月1日 |
放射 | モノクロメーター: Horizontal focusing 5.05 asymmetric cut Si(111) プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 0.987 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 1.98→50 Å / Num. all: 12200 / Num. obs: 11600 / % possible obs: 94.7 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 2.3 % / Rsym value: 0.069 / Net I/σ(I): 17.3 |
反射 シェル | 解像度: 1.98→2.01 Å / 冗長度: 1.8 % / Mean I/σ(I) obs: 1.9 / Num. unique all: 357 / Rsym value: 0.326 / % possible all: 58 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: ![]()
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溶媒の処理 | イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | Biso mean: 34.413 Å2
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 1.98→40.33 Å
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拘束条件 |
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LS精密化 シェル | 解像度: 1.981→2.032 Å / Total num. of bins used: 20
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