温度: 277 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 6.5 詳細: PEG 550 MME, MES, ZnSO4, pH 6.5, temperature 277K, VAPOR DIFFUSION, SITTING DROP
-
データ収集
回折
ID
平均測定温度 (K)
Crystal-ID
1
100
1
2
100
1
放射光源
由来
サイト
ビームライン
ID
波長 (Å)
シンクロトロン
ALS
8.2.1
1
1
シンクロトロン
ALS
8.2.1
2
1.2824
検出器
タイプ
ID
検出器
日付
ADSC QUANTUM 315r
1
CCD
2009年6月30日
ADSC QUANTUM 315r
2
CCD
2009年6月30日
放射
ID
プロトコル
単色(M)・ラウエ(L)
散乱光タイプ
Wavelength-ID
1
SINGLEWAVELENGTH
M
x-ray
1
2
SINGLEWAVELENGTH
M
x-ray
1
放射波長
ID
波長 (Å)
相対比
1
1
1
2
1.2824
1
Reflection
冗長度: 10.3 % / Av σ(I) over netI: 52.04 / 数: 257894 / Rmerge(I) obs: 0.061 / Χ2: 2.12 / D res high: 2 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 24925 / % possible obs: 99.9
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
5.43
50
98.4
1
0.05
5.543
9.4
4.31
5.43
99.9
1
0.049
4.179
9.9
3.76
4.31
100
1
0.051
3.631
9.7
3.42
3.76
100
1
0.058
3.746
9.7
3.17
3.42
100
1
0.063
3.48
10
2.99
3.17
100
1
0.066
2.989
10.2
2.84
2.99
100
1
0.069
2.608
10.3
2.71
2.84
100
1
0.078
2.242
10.5
2.61
2.71
100
1
0.081
1.828
10.5
2.52
2.61
100
1
0.093
1.69
10.6
2.44
2.52
100
1
0.102
1.482
10.6
2.37
2.44
100
1
0.112
1.311
10.6
2.31
2.37
100
1
0.12
1.209
10.7
2.25
2.31
100
1
0.136
1.138
10.6
2.2
2.25
100
1
0.155
1.098
10.6
2.15
2.2
100
1
0.18
1.017
10.7
2.11
2.15
100
1
0.236
0.964
10.6
2.07
2.11
100
1
0.28
0.898
10.7
2.03
2.07
100
1
0.3
0.913
10.6
2
2.03
100
1
0.355
0.833
10.6
反射
解像度: 1.85→50 Å / Num. obs: 31631 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 11.2 % / Rmerge(I) obs: 0.044 / Χ2: 1.026 / Net I/σ(I): 14.7
反射 シェル
解像度: 1.85→1.88 Å / 冗長度: 9 % / Rmerge(I) obs: 0.606 / Mean I/σ(I) obs: 3 / Num. unique all: 1527 / Χ2: 0.654 / % possible all: 98.5
-
位相決定
位相決定
手法: 単波長異常分散
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
PHENIX
1.5_2
精密化
PDB_EXTRACT
3.1
データ抽出
AutoSol
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.846→31.471 Å / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 1 / FOM work R set: 0.814 / SU ML: 0.26 / σ(F): 1.33 / 位相誤差: 24.89 / 立体化学のターゲット値: ML
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.242
1592
5.04 %
Rwork
0.212
-
-
obs
0.213
31559
99.56 %
溶媒の処理
減衰半径: 0.9 Å / VDWプローブ半径: 1.11 Å / 溶媒モデル: FLAT BULK SOLVENT MODEL / Bsol: 53.234 Å2 / ksol: 0.335 e/Å3