THERE IS CONFLICT BETWEEN THE REPORTED SEQUENCE AND DATABASE REFERENCE SEQUENCE. ACCORDING TO THE ...THERE IS CONFLICT BETWEEN THE REPORTED SEQUENCE AND DATABASE REFERENCE SEQUENCE. ACCORDING TO THE ELECTRON DENSITY THE POSITION 277 IS OBVIOUSLY VAL THAN ALA.
解像度: 1.11→1.16 Å / 冗長度: 2.6 % / Rmerge(I) obs: 0.577 / Mean I/σ(I) obs: 2.9 / Num. unique all: 14413 / Rsym value: 0.481 / % possible all: 91.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
SOLVE
位相決定
REFMAC
5.4.0067
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 1.2→16.47 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.957 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.95 / SU B: 0.623 / SU ML: 0.029 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.047 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21309
4790
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.198
-
-
-
obs
0.19875
89815
94.28 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK