温度: 293 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 8.5 詳細: 0.2 M MgCl2, 0.1 M Tris-HCl, pH 8.5, 30% (w/v) PEG-4000, VAPOR DIFFUSION, SITTING DROP, temperature 293K
-
データ収集
回折
ID
平均測定温度 (K)
Crystal-ID
1
100
1
2
100
1
放射光源
由来
サイト
ビームライン
ID
波長 (Å)
シンクロトロン
APS
23-ID-D
1
1.03
シンクロトロン
APS
21-ID-F
2
0.98
検出器
タイプ
ID
検出器
日付
MAR CCD 165 mm
1
CCD
2008年12月1日
MAR CCD 130 mm
2
CCD
2009年6月4日
放射
ID
モノクロメーター
プロトコル
単色(M)・ラウエ(L)
散乱光タイプ
Wavelength-ID
1
graphite
SINGLEWAVELENGTH
M
x-ray
1
2
graphite
SINGLEWAVELENGTH
M
x-ray
1
放射波長
ID
波長 (Å)
相対比
1
1.03
1
2
0.98
1
Reflection
冗長度: 8 % / Av σ(I) over netI: 30.88 / 数: 168337 / Rmerge(I) obs: 0.126 / Χ2: 1.94 / D res high: 3 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 21093 / % possible obs: 98.9
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
6.46
50
96.7
1
0.054
4.201
8
5.13
6.46
99.2
1
0.078
2.466
8.2
4.48
5.13
99.7
1
0.078
2.6
8.1
4.07
4.48
99.6
1
0.094
2.156
8.1
3.78
4.07
99.7
1
0.132
1.841
8.1
3.56
3.78
99.4
1
0.182
1.577
8.1
3.38
3.56
99.5
1
0.269
1.28
8.1
3.23
3.38
99.2
1
0.392
1.105
8
3.11
3.23
98.7
1
0.525
1.02
7.9
3
3.11
96.9
1
0.694
0.956
7.1
反射
解像度: 2.27→50 Å / Num. obs: 48378 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 11.6 % / Rmerge(I) obs: 0.093 / Χ2: 1.204 / Net I/σ(I): 8
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
Diffraction-ID
% possible all
2.27-2.31
11.6
0.378
2398
0.728
1,2
100
2.31-2.35
11.6
0.351
2402
0.732
1,2
100
2.35-2.4
11.6
0.312
2412
0.748
1,2
100
2.4-2.45
11.6
0.277
2421
0.734
1,2
100
2.45-2.5
11.6
0.251
2394
0.751
1,2
100
2.5-2.56
11.6
0.214
2419
0.721
1,2
100
2.56-2.62
11.6
0.196
2399
0.739
1,2
100
2.62-2.69
11.6
0.179
2410
0.733
1,2
100
2.69-2.77
11.6
0.159
2417
0.75
1,2
100
2.77-2.86
11.6
0.137
2437
0.784
1,2
100
2.86-2.96
11.6
0.122
2398
0.788
1,2
100
2.96-3.08
11.6
0.102
2424
0.827
1,2
100
3.08-3.22
11.6
0.086
2412
0.943
1,2
100
3.22-3.39
11.6
0.085
2401
1.294
1,2
100
3.39-3.6
11.6
0.084
2437
1.888
1,2
100
3.6-3.88
11.5
0.079
2417
2.26
1,2
100
3.88-4.27
11.4
0.076
2437
2.636
1,2
100
4.27-4.89
11.4
0.055
2417
2.203
1,2
100
4.89-6.16
11.6
0.042
2447
1.277
1,2
100
6.16-50
11.2
0.036
2479
2.591
1,2
99.9
-
位相決定
位相決定
手法
多重同系置換・異常分散
分子置換
Phasing MR
Rfactor: 34.2 / Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
最高解像度
最低解像度
Rotation
2.27 Å
42.41 Å
Translation
2.27 Å
42.41 Å
Phasing MIR der
解像度: 0→0.24 Å / Power acentric: 0.11 / Power centric: 3.02 / Reflection acentric: 18 / Reflection centric: 3
Phasing MIR der shell
最高解像度: 0 Å / 最低解像度: 0.24 Å / Power acentric: 0.42 / Power centric: 8.92 / Reflection acentric: 2 / Reflection centric: 12
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
PHASER
2.1.2
位相決定
SHARP
位相決定
REFMAC
refmac_5.2.0019
精密化
PDB_EXTRACT
3.005
データ抽出
HKL-2000
データ収集
精密化
構造決定の手法: 多重同系置換・異常分散, 分子置換 解像度: 2.3→42.41 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.932 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.909 / WRfactor Rfree: 0.233 / WRfactor Rwork: 0.196 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 1 / SU B: 14.625 / SU ML: 0.161 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.32 / ESU R Free: 0.228 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : RESIDUAL ONLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.244
2340
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.206
-
-
-
obs
0.207
46247
99.95 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK