解像度: 2.8→50 Å / Num. all: 22341 / Num. obs: 22341 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 14.3 % / Biso Wilson estimate: 69.5 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.086 / Net I/σ(I): 51.5
反射 シェル
解像度: 2.8→2.85 Å / 冗長度: 14.7 % / Rmerge(I) obs: 0.533 / Mean I/σ(I) obs: 7.9 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
SBC-Collect
データ収集
HKL-3000
位相決定
MLPHARE
位相決定
直接法
モデル構築
SHELXD
位相決定
RESOLVE
モデル構築
ARP/wARP
モデル構築
Coot
モデル構築
REFMAC
5.5.0054
精密化
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
直接法
位相決定
RESOLVE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 2.8→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.928 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.896 / SU B: 32.919 / SU ML: 0.293 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.569 / ESU R Free: 0.346 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. PROGRAM CNS HAS ALSO BEEN USED IN REFINEMENT.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27835
1136
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.2266
-
-
-
obs
0.22931
22189
99.47 %
-
all
-
22189
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK