モノクロメーター: SI(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→50 Å / Num. all: 63141 / Num. obs: 63141 / % possible obs: 98.8 % / 冗長度: 10.5 % / Biso Wilson estimate: 35 Å2 / Net I/σ(I): 23
反射 シェル
最高解像度: 1.9 Å / 冗長度: 8 % / Mean I/σ(I) obs: 2.2 / % possible all: 95.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
PHASER
位相決定
REFMAC
5.4.0063
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.9→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.935 / SU B: 4.85 / SU ML: 0.134 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.146 / ESU R Free: 0.146 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN TEH RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2643
3369
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.2186
-
-
-
obs
0.22094
63141
98.14 %
-
all
-
63141
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK