モノクロメーター: SI 111 CRYSTAL / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97904 Å / 相対比: 1
Reflection twin
Operator: h,h-k,h-l / Fraction: 0.502
反射
解像度: 1.9→42 Å / Num. obs: 138074 / % possible obs: 96.9 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 2.4 % / Rmerge(I) obs: 0.069 / Net I/σ(I): 20.3
反射 シェル
解像度: 1.9→1.93 Å / 冗長度: 2.3 % / Rmerge(I) obs: 0.427 / Mean I/σ(I) obs: 1.77 / % possible all: 86.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
PHENIX
(phenix.refine)
精密化
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
SHELXD
位相決定
MLPHARE
位相決定
直接法
位相決定
RESOLVE
位相決定
HKL-3000
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.9→41.61 Å / 位相誤差: 35.25 / 立体化学のターゲット値: ENGH & HUBER 詳細: The structure was resolved in space group C2 and was refined in space group P1 with a twin-law of "h, h-k, h-l".
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.243
14106
5.28 %
Rwork
0.193
-
-
obs
0.196
266959
93.4 %
溶媒の処理
減衰半径: 0.9 Å / VDWプローブ半径: 1.11 Å / 溶媒モデル: FLAT BULK SOLVENT MODEL / Bsol: 75.95 Å2 / ksol: 0.37 e/Å3