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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 386d | |||||||||||||||||||||
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タイトル | THREE-DIMENSIONAL STRUCTURE AND REACTIVITY OF A PHOTOCHEMICAL CLEAVAGE AGENT BOUND TO DNA | |||||||||||||||||||||
![]() | DNA (5'-D(*![]() DNA / RIGHT HANDED DNA / DOUBLE HELIX / COMPLEXED WITH DRUG | 機能・相同性 | N,N-BIS(3-AMINOPROPYL)-2-ANTHRAQUINONESULFONAMIDE / DNA | ![]() 手法 | ![]() ![]() Gasper, S.M. / Armitage, B. / Shui, X. / Hu, G.G. / Yu, C. / Schuster, G. / Williams, L.D. | ![]() ジャーナル: J.Am.Chem.Soc. / 年: 1998 | タイトル: Three-Dimensional Structure and Reactivity of a Photochemical Cleavage Agent Bound to DNA 著者: Gasper, S.M. / Armitage, B. / Shui, X. / Hu, G.G. / Yu, C. / Schuster, G. / Williams, L.D. 履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 13.7 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 7.6 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
文書・要旨 | ![]() | 642.5 KB | 表示 | ![]() |
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文書・詳細版 | ![]() | 642.6 KB | 表示 | |
XML形式データ | ![]() | 3 KB | 表示 | |
CIF形式データ | ![]() | 3.5 KB | 表示 | |
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
-関連構造データ
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 | ![]()
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単位格子 |
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Components on special symmetry positions |
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要素
#1: DNA鎖 | 分子量: 1809.217 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 組換発現 |
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#2: 化合物 | ChemComp-AQS / |
#3: 水 | ChemComp-HOH / |
-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.49 Å3/Da / 溶媒含有率: 50.63 % | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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結晶化 | 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 6.5 / 詳細: pH 6.50, VAPOR DIFFUSION, SITTING DROP | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 |
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結晶化 | *PLUS pH: 6.5 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 | *PLUS
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-データ収集
回折 | 平均測定温度: 136 K |
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放射光源 | 由来: ![]() |
検出器 | タイプ: SDMS / 検出器: AREA DETECTOR |
放射 | モノクロメーター: GRAPHITE / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 1.5418 Å / 相対比: 1 |
反射 | 冗長度: 12.44 % / Rmerge(I) obs: 0.077 |
反射 シェル | 解像度: 1.8→1.88 Å / % possible all: 65.6 |
反射 | *PLUS 最高解像度: 1.8 Å / 最低解像度: 10 Å / Num. obs: 1972 / Num. measured all: 24530 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 解像度: 1.8→10 Å / σ(F): 5
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 1.8→10 Å
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拘束条件 |
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ソフトウェア | *PLUS 名称: ![]() | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
精密化 | *PLUS 最高解像度: 1.8 Å / 最低解像度: 10 Å / σ(F): 5 / % reflection Rfree: 10 % | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶媒の処理 | *PLUS | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | *PLUS | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
拘束条件 | *PLUS タイプ: x_angle_deg / Dev ideal: 3.025 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
LS精密化 シェル | *PLUS 最高解像度: 1.8 Å / 最低解像度: 1.88 Å / Num. reflection obs: 145 / Rfactor obs: 0.302 |