冗長度: 8.8 % / Av σ(I) over netI: 11.7 / 数: 200964 / Rmerge(I) obs: 0.06 / Χ2: 1.03 / D res high: 2 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 22797 / % possible obs: 99.2
D res high: 2.1 Å / D res low: 50 Å / FOM : 0.213 / FOM acentric: 0.257 / FOM centric: 0 / 反射: 10802 / Reflection acentric: 8962 / Reflection centric: 1840
Phasing MAD set
R cullis acentric: 1.53 / R cullis centric: 1 / 最高解像度: 2.1 Å / 最低解像度: 50 Å / Loc acentric: 0.1 / Loc centric: 0.1 / Power acentric: 0 / Power centric: 0 / Reflection acentric: 8962 / Reflection centric: 1840
Phasing MAD set shell
ID: 1 / R cullis centric: 1 / Power acentric: 0 / Power centric: 0
解像度 (Å)
R cullis acentric
Loc acentric
Loc centric
Reflection acentric
Reflection centric
12.98-50
1.58
0.6
0.3
22
37
7.46-12.98
1.67
0.5
0.3
130
96
5.23-7.46
2.29
0.4
0.1
344
148
4.03-5.23
1.12
0.2
0.2
656
208
3.28-4.03
1.12
0.1
0.1
1081
257
2.76-3.28
2.13
0
0
1590
313
2.39-2.76
2.7
0
0
2218
372
2.1-2.39
1.29
0
0
2921
409
Phasing MAD set site
ID
Atom type symbol
B iso
Fract x
Fract y
Fract z
Occupancy
1
Se
48.15793
0.504
0.334
0.025
0
2
Se
77.86912
0.536
0.624
0.042
0
3
Se
41.17496
0.32
0.162
0.006
0
4
Se
44.65211
0.834
0.52
0.069
0
5
Se
57.94392
0.57
0.635
0.02
0
6
Se
54.097
0.365
0.543
-0.007
0
7
Se
75.5601
0.357
0.521
-0.009
0
8
Se
62.63144
0.201
0.705
0.077
0
9
Se
75.57895
0.488
0.907
0.039
0
10
Se
60.55979
0.242
0.133
0.008
0
11
Se
81.69875
0.297
0.232
0.01
0
12
Se
72.27107
0.119
0.16
0.076
0
13
Se
52.95457
0.361
0.203
0.123
0
14
Se
109.7773
0.037
0.505
0.054
0
15
Se
47.08311
0.318
0.496
0.026
0
Phasing MAD shell
解像度 (Å)
FOM
FOM acentric
FOM centric
反射
Reflection acentric
Reflection centric
12.98-50
0.229
0.614
0
59
22
37
7.46-12.98
0.352
0.612
0
226
130
96
5.23-7.46
0.383
0.548
0
492
344
148
4.03-5.23
0.417
0.549
0
864
656
208
3.28-4.03
0.394
0.488
0
1338
1081
257
2.76-3.28
0.276
0.33
0
1903
1590
313
2.39-2.76
0.153
0.178
0
2590
2218
372
2.1-2.39
0.065
0.074
0
3330
2921
409
Phasing dm
手法: Solvent flattening and Histogram matching / 反射: 10802
Phasing dm shell
解像度 (Å)
Delta phi final
FOM
反射
6.11-100
70
0.652
503
4.78-6.11
63
0.848
507
4.15-4.78
62.5
0.892
506
3.75-4.15
61.9
0.893
509
3.47-3.75
61.3
0.911
502
3.25-3.47
62.8
0.87
505
3.09-3.25
61
0.871
508
2.95-3.09
65.8
0.879
504
2.83-2.95
70.3
0.873
507
2.73-2.83
67.9
0.866
506
2.64-2.73
73.9
0.887
511
2.56-2.64
72.7
0.855
503
2.49-2.56
69.6
0.897
513
2.43-2.49
75.7
0.857
509
2.37-2.43
76.2
0.898
503
2.32-2.37
78.8
0.88
507
2.27-2.32
79.5
0.874
504
2.23-2.27
79.3
0.869
508
2.19-2.23
80.1
0.856
512
2.15-2.19
80.9
0.864
521
2.1-2.15
85.9
0.816
654
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
MLPHARE
位相決定
直接法
5
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.004
データ抽出
SBC-Collect
データ収集
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 2.1→40.86 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.913 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.883 / SU B: 4.991 / SU ML: 0.139 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.266 / ESU R Free: 0.22 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: The Bijvoet differences were used in phasing. HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.288
518
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.243
-
-
-
obs
0.246
10802
99.79 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK