プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.65→48.04 Å / Num. obs: 37038 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 15.7 % / Biso Wilson estimate: 14.5 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 33.7
反射 シェル
解像度: 1.65→1.74 Å / 冗長度: 13.2 % / Rmerge(I) obs: 0.41 / Mean I/σ(I) obs: 7.1 / % possible all: 99.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELXCDE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単一同系置換・異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.65→110.94 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.966 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.961 / SU B: 0.834 / SU ML: 0.029 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.054 / ESU R Free: 0.053 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.16244
1848
5 %
RANDOM
Rwork
0.15118
-
-
-
obs
0.15173
35140
99.82 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK