プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.459 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.39→19.94 Å / Num. obs: 24202 / % possible obs: 99.8 % / Observed criterion σ(I): 3.5 / 冗長度: 14 % / Biso Wilson estimate: 52.396 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 26.8
反射 シェル
解像度: 2.39→2.52 Å / 冗長度: 8.2 % / Rmerge(I) obs: 0.64 / Mean I/σ(I) obs: 3.5 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
HKL2Map
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.39→72.98 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.921 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.885 / SU B: 6.966 / SU ML: 0.17 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.294 / ESU R Free: 0.248 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY. UNEXPECTED ELECTRON DENSITY WAS MODELED AS ALPHA-CHAIN (Q)
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27892
1177
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.22917
-
-
-
obs
0.2317
21766
94.78 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK