プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9794 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.45→37.3 Å / Num. obs: 143277 / % possible obs: 99.5 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 3.5 % / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 9.4
反射 シェル
解像度: 1.45→1.53 Å / 冗長度: 3.4 % / Rmerge(I) obs: 0.24 / Mean I/σ(I) obs: 4.3 / % possible all: 97.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: OTHER 開始モデル: NONE 解像度: 1.45→37.31 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.934 / SU B: 1.093 / SU ML: 0.044 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.069 / ESU R Free: 0.07 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20459
7087
5 %
RANDOM
Rwork
0.17917
-
-
-
obs
0.18045
135232
99.33 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK