プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.5→50 Å / Num. obs: 68859 / % possible obs: 99.5 % / Observed criterion σ(I): 3 / 冗長度: 3.6 % / Rmerge(I) obs: 0.01 / Net I/σ(I): 23.8
反射 シェル
解像度: 1.5→1.6 Å / 冗長度: 3.6 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Mean I/σ(I) obs: 3.7 / % possible all: 99.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0102
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: OTHER 開始モデル: NONE 解像度: 1.5→7.99 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.972 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.957 / SU B: 1.492 / SU ML: 0.056 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.071 / ESU R Free: 0.078 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21095
2053
3 %
RANDOM
Rwork
0.16623
-
-
-
obs
0.16759
66403
99.46 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK