プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.05→24.84 Å / Num. obs: 20754 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 10.69 % / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 15.9
反射 シェル
解像度: 2.05→2.1 Å / 冗長度: 10.82 % / Rmerge(I) obs: 0.43 / Mean I/σ(I) obs: 4.7 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称: REFMAC / バージョン: 5.5.0088 / 分類: 精密化
精密化
構造決定の手法: 単一同系置換・異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.05→24.84 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.959 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.926 / SU B: 5.173 / SU ML: 0.143 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.207 / ESU R Free: 0.201 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. DISORDERED REGIONS WERE MODELED BASED ON OVERLAYS WITH THE ALTERNATE CHAIN AND STEREOCHEMISTRY.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27827
1065
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.20644
-
-
-
obs
0.20991
19688
99.99 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK