解像度: 1.5→30 Å / Num. obs: 44795 / % possible obs: 93.3 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 4.5 % / Biso Wilson estimate: 17.2 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.01 / Net I/σ(I): 11.4
反射 シェル
解像度: 1.5→1.57 Å / 冗長度: 1.9 % / Rmerge(I) obs: 0.02 / Mean I/σ(I) obs: 2 / % possible all: 93.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.4.0074
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
autoSHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.5→25.51 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.958 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.946 / SU B: 3.382 / SU ML: 0.064 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.094 / ESU R Free: 0.093 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. ATOM RECORD CONTAINS RESIDUAL B FACTORS ONLY.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22516
2279
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1918
-
-
-
obs
0.19346
42455
93.1 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK