解像度: 1.42→39.72 Å / Num. obs: 63845 / % possible obs: 99.3 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 3.92 % / Biso Wilson estimate: 10 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.04 / Net I/σ(I): 10.8
反射 シェル
解像度: 1.42→1.5 Å / 冗長度: 3.2 % / Rmerge(I) obs: 0.29 / Mean I/σ(I) obs: 2.68 / % possible all: 96.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
HKL2Map
位相決定
ARP/wARP
位相決定
REFMAC
5.5.0072
精密化
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.42→61.4 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.974 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.961 / SU B: 1.813 / SU ML: 0.032 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.067 / ESU R Free: 0.058 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.16631
3244
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1314
-
-
-
obs
0.13315
60601
99.26 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK